T.P. de Chimie: Etude de la galvanoplastie du cuivre

Authors Avatar

Samir Benchenaa

T.P. de Chimie: Etude de la galvanoplastie du cuivre

Organisation a :

Question de recherche : Est-ce que, lorsqu’on augmente l’intensité du courrant lors d’une galvanoplastie, il y aura un dépôt plus important à la cathode ?

Hypothèse : Si on augmente l’intensité du courrant au cours des galvanoplasties, alors il y aura une augmentation du dépôt de cuivre à la cathode. L’augmentation de l’intensité serait alors proportionnelle à l’augmentation de la masse de cuivre déposée à la cathode.

Variables contrôlées : la matière des câbles, le temps, la température, l’acidité et la concentration de la solution de sulfate de cuivre, la pression atmosphérique, le pH de la solution, les électrodes (actives ou passives).

Join now!

Variable indépendante : Intensité (en ampères)

Variable dépendante : Masse des électrodes (en grammes)

Organisation b :

Matériel :

  • Solution acidifiée de sulfate de cuivre à 0,5 mol∙dm-3
  • Ampèremètre
  • Générateur
  • Bécher de 200 cm3
  • Chronomètre
  • Solution d’ammoniaque (NH4OH) à 2 mol∙dm-3
  • Balance précise au dix millième de gramme (± 0,0001 g)
  • Deux lames de cuivre (les électrodes)
  • Papier de verre
  • Support d’électrolyse
  • Câbles de connexion
  • Eau distillée
  • Propanone
  • Plaque de protection

Protocole :

  1. Nettoyer deux lames de cuivre avec du papier de verre
  2. Frotter les lames avec du papier ménage imbibé de NH4OH puis ...

This is a preview of the whole essay